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Nd：YAG和Nd：YVO4激光器
- 產(chǎn)品型號：
- 更新時間：2026-02-08
- 產(chǎn)品介紹：Nd：YAG或Nd：YVO4弱激光線的組件摻釹晶體顯示出不同波長的激光躍遷。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd：YAG和Nd：YVO4的激光波長。Nd：YAG和Nd：YVO4激光器
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Nd：YAG或Nd：YVO4弱激光線的組件
摻釹晶體顯示出不同波長的激光躍遷。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd：YAG和Nd：YVO4的激光波長。
Nd:YAG | Nd:YVO4 | ||
Laser line | Second harmonic | Laser lines | Second harmonic |
946 nm | 473 nm | 915 nm | 457 nm |
1064 nm | 532 nm | 1064 nm | 532 nm |
1123 nm | 561 nm | ||
1319 nm | 659 nm | 1340 nm | 670 nm |
表1：Nd：YAG和Nd：YVO4的二次諧波的激光線和相應波長
可以看出，可以從這些晶體獲得VIS和NIR中的各種激光線。此現(xiàn)象用于構(gòu)建緊湊的二極管泵浦的固態(tài)激光器，該激光器具有多種波長，可用于測量應用以及投影系統(tǒng)（RGB激光器）。兩種材料中強的激光躍遷是1064nm線。其他波長的有效激光輻射只有通過抑制這條線才能實現(xiàn)。LAYERTEC為此應用提供了各種激光鏡。
緊湊型激光器設(shè)計還包括泵浦二極管（808nm）和用于產(chǎn)生二次諧波的單元。這就是為什么為什么Nd：YAG或Nd：YVO4波長為1064nm的涂層大部分顯示出幾個具有高透射率和高反射率的光譜區(qū)域。在下文中，我們給出了這種涂層的一些例子。所有涂層均根據(jù)客戶規(guī)格進行設(shè)計，因為規(guī)格取決于激光設(shè)計。這些頁面上的所有示例均適用于Nd：YAG波長。Nd：YVO4的涂層也可以設(shè)計和生產(chǎn)。
圖1：雙波長反射鏡在弱激光線及其二次諧波的反射光譜中具有高透射率，對于泵浦波長和強激光線：
HR（0°，473nm）> 99.85％+ HR（0°，946nm）> 99.95％+ R（0°，808nm）<2％+ R（0°，1064nm）<5％
圖2：對于泵浦波長，具有高透射率的二向色鏡的反射光譜也抑制了1064nm線：
HR（0°，1123nm）> 99.9％+ R（0°，561nm）<2％+ R（0°，808nm）<10％+ R（0°，1064nm）<50％
圖3：對于泵浦波長和二次諧波具有高透射率的薄膜偏振片的反射光譜，這也抑制了1064nm線：
HRs（56°，1123nm）> 99.9％+ Rp（56°，1123nm）<50％+ Rs，p（56°，561 + 808nm）<10％+ Rs，p（56°，1064nm）<50％
圖4：二向色鏡的反射光譜，對于NIR波長具有高反射率，并且對于相應的二次諧波波長具有高透射率：
HR（0°，1064 + 1123 + 1319nm）> 99.9％+ R（0°，532–561 + 659nm）<2％
Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的三次諧波分量
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的三次諧波在材料加工以及測量應用以及作為光學參量振蕩器的泵浦源方面越來越重要。在這些頁面上，我們介紹了355nm的光學器件：單波長和多波長反射鏡，分離器，薄膜偏振片和抗反射涂層。所有設(shè)計均根據(jù)客戶要求進行計算。
圖1：垂直入射的單波長鏡的反射光譜（a）和轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）
圖2：355nm和532nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和355nm，532nm和1064nm的三重波長轉(zhuǎn)向鏡（b）
圖3：二次諧波和地面波長的三次諧波的分離器反射光譜：
（a）：標準型
（b）：分離器經(jīng)過特別優(yōu)化，可在1064nm下實現(xiàn)低反射率
有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格，請參見本網(wǎng)站上的表格。
請不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。
圖4：從二次諧波到地面波長的三次諧波的特殊分離器的反射光譜：
（熒光分離器HRs（45°，355nm）> 95％+ Rp（45°，532nm）<2％+ Rs，p（45°，1064nm）<2％
（b）HR（45°，532nm）> 99.8nm + R（45°，355nm）<5％
熒光分離器在高功率密度下顯示出延長的使用壽命。
圖5：355nm薄膜偏振片的反射光譜：HRs（55°，355nm）> 99％+ Rp（55°，355nm）<5％
可以通過角度調(diào)整來優(yōu)化p偏振光的透射率。將偏振片傾斜±2°，可使Rp的最小值移至更長或更短的波長，這可以顯著提高偏振比。
圖6：針對AOI = 0°至30°（a）優(yōu)化的355nm單波長增透膜和355nm，532nm和1064nm熔融石英上的三波長增透膜的反射光譜。
Nd：YAG和Nd：YVO4激光二次諧波的組件
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測量應用。此外，Nd：YAG激光器的二次諧波通常用作Ti：Sapphire激光器的泵浦源。在這些頁面上，我們介紹532nm的光學器件：雙波長鏡，分離器，薄膜偏振片和非偏振分束器，以及用于不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔光學器件。所有設(shè)計均根據(jù)客戶要求進行計算。
圖1：泵浦波長（808nm）具有高透射率的雙波長腔鏡的反射光譜（a）和雙波長轉(zhuǎn)向鏡（b）
圖2：分離器的反射光譜，該反射光譜來自地面波長的二次諧波：
（a）：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532 + 808nm）<3％
（b）：HRs + p（45°，532nm）> 99.9％+ Rs + p（45°，808 + 1064nm）<2％
圖3：薄膜偏振片（a）和非偏振分束器（b）在532nm處的反射光譜，Rs = Rp = 50±2％（| Rs-Rp | <3％）
通過改進的腔衰蕩設(shè)置，可以高精度測量用于p偏振光的薄膜偏振片的透射率。
圖4：二次諧波和地波產(chǎn)生的三次諧波分離器的反射光譜（a）以及355nm和532nm的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）
有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格，請參見本網(wǎng)站上的表格。請不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。
圖5：1064nm的HR反射鏡的反射光譜，也是532nm的輸出耦合器：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532nm）= 99％
非線性光學晶體上的涂層
非線性光學晶體是頻率轉(zhuǎn)換的關(guān)鍵要素。 LAYERTEC在KTP和鈮酸鋰等晶體上提供各種涂層。
圖6：KTP上的雙重抗反射涂層在532nm和1064nm處的反射光譜
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的高次諧波組件
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測量應用。在這些頁面上，我們介紹了用于第四次諧波（266nm）和第五次諧波（213nm）的雙波長反射鏡和分離器。所有設(shè)計均根據(jù)客戶要求進行計算。
圖1：圖1：266nm和355nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和長波諧波和地面波長的四次諧波的分離器（b）
F
圖2：從長波長諧波和地面波長（b）測得的五次諧波轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和五次諧波分離器的反射光譜；CaF2上的氟涂層
Separator | Centre | Reflectance at centre | Reflectance at the corresponding longer | ||||||||
266nm | 355nm | 532nm | 1064nm | ||||||||
Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | ||
3rd harmonic | 355nm | > 99.7 | > 99 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | ||||
4th harmonic | 266nm | > 99.7 | > 99 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 | ||
5th harmonic | 213nm | > 97 | > 93 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 |
表1：紫外線諧波分離器的通用規(guī)格
* CaF2上的氟涂層
圖3：二次諧波與第四次諧波分離器的反射光譜：
（a）：HR（0°，532nm）> 99.5％+ R（0°，266nm）<10％（背面未鍍膜）
（b）：HR（0°，532nm）> 99.9％+ R（0°，266nm）<5％（背面未鍍膜）
266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生。這些涂層顯示出很高的損傷閾值，但是在可見光譜范圍內(nèi)的反射率被限制為R> 99.5％（見圖3a）。關(guān)于用于紫外線的濺射涂層的新研究結(jié)果表明，可以生產(chǎn)出在VIS中具有明顯改善的反射率的隔離膜，它們在紫外線下具有相似的特性（見圖3b）。
圖4：第四和第五諧波的隔板的反射光譜：
對于非偏振光，HRr（45°，266nm）> 98％+ Rr（45°，213nm）<10％
a）為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層（背面未涂層）
b）氟化物涂層具有較高的激光誘導損傷閾值（背面未涂層）
213nm的五次諧波是氧化物涂層的關(guān)鍵波長，因為氧化鋁的吸收邊緣始于該波長范圍。對于高功率應用，我們建議根據(jù)ArF準分子激光鏡技術(shù)生產(chǎn)的氟化鈣上的氟化涂層。
圖5：薄膜偏振片在266nm（a）和213nm（b）的反射光譜：
a）HR（56°，266nm）> 98％+ Rp（56°，266nm）<1％
b）HR（56°，213nm）> 97％+ Rp（56°，213nm）<5％;
請注意，由于上述集合損失，Tp只有75％左右
磁控濺射使我們能夠為Nd：YAG激光器的第四和第五諧波提供薄膜偏振片。
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